臺灣半導體製程產生的低濃度含氟廢水長期面臨處理成本高、難以回收的困境。在國科會支持下，國立臺灣大學環境工程學研究所特聘教授侯嘉洪研究團隊，攜手鋒霈環境科技股份有限公司，成功研發出創新的「電驅動分離濃縮技術」，將原本難以利用的低濃度含氟廢水轉化為可再利用的循環資源，為半導體產業的淨零轉型帶來重大突破。
傳統處理低濃度含氟廢水多採用化學加藥沉澱法，不僅會產生大量氟化鈣污泥、增加清運與碳排負擔，也無法回收資源。侯嘉洪團隊導入深耕多年的薄膜電容去離子技術(Membrane Capacitive Deionization, MCDI)，利用電場驅動離子移動與吸附。這項技術具備無須加藥、不產生化學污泥、模組化設計及高回收潛力等優勢，能成功將低濃度廢水濃縮至可製備冰晶石(供鋁製造及陶瓷業使用)的濃度。
為加速技術落地，研究團隊將系統規模放大10倍，成功建置每日可處理1噸廢水的「電容式氟離子濃縮套裝系統」，並完成實廠測試。團隊透過材料優化，以石墨片取代傳統金屬集電材料，顯著提升系統的穩定性與耐久性。根據生命週期評估，每回收1毫克氟離子，其碳排放量可從0.098 kg CO?-eq大幅降至0.008 kg CO?-eq，展現極佳的減碳效益。
為了進一步推動技術展示、產業合作與人才培育，研究團隊已於臺大竹北校區設立「Net Zero WaterTech Hub」，並與鋒霈公司共同建置合作實驗室。此舉成功將研究成果從實驗室延伸至產業現場，建立起技術驗證與應用推廣的關鍵橋梁。
 | 圖一 : 資源循環再利用產品(冰晶石)及薄膜電容去離子模組 |
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