據TrendForce統計,2023~2027年全球晶圓代工成熟製程(28nm及以上)及先進製程(16nm及以下)產能比重大約維持在7:3。由於中國致力推動在地化生產、IC國產化等政策與補貼,故擴產進度又以中國最積極,預估中國成熟製程產能占比將從今年的29%,成長至2027年的33%,其中以中芯國際(SMIC)、華虹集團(HuaHong Group)、合肥晶合集成(Nexchip)擴產最為積極;同期台灣成熟製程占比則會從49%,收斂至42%。
擴產聚焦在Driver IC、CIS/ISP與Power Discrete等特殊工藝,二、三線台廠首當其衝
Driver IC方面,主要採用HV(High Voltage)特殊工藝,各家業者近期聚焦40/28nm HV製程開發,而目前市場製程技術較領先的業者是聯電(UMC),其次是格羅方德(GlobalFoundries)。不過,中芯國際28HV、合肥晶合集成40HV將先後於今年第四季、明年下半年進入量產階段,並與其他晶圓代工業者的技術差距逐漸縮小,尤其製程能力與產能相當的競爭者如力積電(PSMC),或暫無十二吋廠的世界先進(Vanguard)、東部高科(DBHitek)短期內將首當其衝;對聯電、格羅方德中長期來看也將造成影響。
CIS/ISP方面,3D CIS結構包含邏輯層ISP與CIS感光層,主流製程大致以45/40nm為分水嶺,邏輯層ISP製程將持續往更先進節點發展;CIS感光層與FSI/BSI CIS則以65/55nm及以上為主流。目前技術領先業者以台積電(TSMC)、聯電、三星(Samsung)為主,但中國業者中芯國際、合肥晶合集成緊追其後,除持續追趕製程差距,產能也受惠中國智慧型手機品牌OPPO、Vivo、小米(Xiaomi)等出海口支撐,加上中國CIS業者OmniVision、Galaxycore與SmartSens因應政府政策,陸續將訂單移回中國進行投產支撐。
Power Discrete(功率元件)方面,主要涵蓋MOSFET與IGBT兩種產品,世界先進、HHGrace深耕Power Discrete製程已久,製程平台及車規驗證覆蓋完整性皆較其他同業更高。而受惠於中國電動車補貼政策以及鋪設太陽能相關基礎建設,中國晶圓代工業者據此獲得更多切入機會,包含主流代工廠HHGrace、中芯國際、合肥晶合集成、CanSemi在內的業者,加上中國本土小型的Power Discrete IDM、晶圓廠如GTA及CRMicro等均加入Power Discrete競爭行列。若中國產能同時大量開出,將加劇全球Power Discrete代工競爭壓力,影響性不僅限於中國本土同業的價格戰,也可能分食台系業者的訂單及客戶。
整體而言,中國透過積極招攬海外及境內IC設計業者投產或研發新品,目的為提高本土化生產的比例,但大幅擴產的結果可能造成全球成熟製程產能過剩,且隨之而來的將會是價格戰。TrendForce認為,中國成熟製程產能陸續開出,針對Driver IC、CIS/ISP與Power discrete等本土化生產趨勢將日漸明確,具備相似製程平台及產能的二、三線晶圓代工業者可能面臨客戶流失風險與價格壓力,如聯電(UMC)、力積電(PSMC)與世界先進(Vanguard)等以特殊製程產品為大宗的台系業者將首當其衝,技術進展和良率將是後續鞏固產能的決勝點。