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韓國也拼國產化! 三星V-NAND制程大幅提升國產設備比重
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三星計畫大量引進韓國企業SEMES的蝕刻設備,該設備原先主要由日本半導體設備大廠東京威力科創(TEL)提供。韓國業界期待,韓國半導體設備能提升前段制程中的使用比重。

韓媒報導指出,明年上半年,三星電子計畫在中國西安第2工廠中增加SEMES的設備比重。西安工廠是三星電子唯一設廠在海外的記憶體半導體生產基地。去年3月起,三星電子開始在該地設廠,預定明年上半年啟動,未來該工廠主要將生產5代V-NAND快閃記憶體與100層以上的高端產品。

三星電子為將SEMES的蝕刻設備應用於5代NAND制程,正在進行最後階段產品測試。第5代NAND快閃記憶體是去年三星電子首次量產的產品,該產品制程也是首次使用SEMES蝕刻設備。

韓國科技媒體《etnews》報導指出,雖然三星電子也曾使用過SEMES的蝕刻設備,但此次投入的SEMES蝕刻設備規模非常大,加上可能會威脅到東京威力科創,引發外界關注。

蝕刻制程是製造半導體相當重要的環節之一,能夠讓線路成型,也能清潔晶片,需要高技術性的設備。目前三星電子、SK海力士等韓國半導體企業擁有國際等級的記憶體技術,但背後的製造設備幾乎仰賴海外企業,因此許多韓國專家們讚賞韓國設備技術國產化的進展。

不少人期待,在新一代記憶體制程中,三星電子能增加使用國產設備的比例。但目前業界普遍認為,此案例也側面印證韓國設備技術已經趕上國外企業的技術水準。

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