據中央社報導，台積電、英特爾和三星為打造體積更小、性能更強的處理器，紛紛投入極紫外光(EUV)技術，相關設備花費不菲，導致3家廠商資本支出直線攀升，ASML等半導體設備廠則獲益良多。

與常用光源相比，採用EUV的系統能讓晶片電路更加微縮，但其相應的製造成本也跟著水漲船高。主要由於EUV光刻設備價格高昂。

ASML稱，第3季光售出7套EUV系統就進帳7.43億歐元，等於每套系統要價超過1億歐元。這還不包括半導體制程式控制管與測試設備成本。因此，晶圓代工龍頭廠商資本支出大增成為趨勢。

台積電10月召開業績發佈會時宣佈今年資本支出達140億至150億美元，高於原先設定目標近40%，創下臺積電單年資本支出最高紀錄。英特爾隨後宣佈加碼3%，今年資本支出目標達160億美元，創公司成立以來最高紀錄，比兩年前高出36%。

三星也在上周宣佈，今年半導體事業資本支出約200億美元。三星公佈的金額略少於去年，但業內分析師表示，三星今年大幅減少投資記憶體生產，是為了將更多的資源投入下一代晶圓代工廠。

晶圓代工廠資本支出大增的同時，意味著半導體設備廠將獲益良多。ASML表示，第3季單季接23套EUV系統訂單，創單季訂單金額最高記錄;半導體制程式控制管設備製造商科磊上周公佈，會計年度第1季營收年增率達29%，並表示EUV投資是業績增長的主要因素。

據悉，明年EUV需求預料更加旺盛，半導體設備廠前景向好。