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鴻海插旗青島高階封測設備!力拚年底量產、年產上看36萬片
數位時代 盧佳柔
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鴻海進軍半導體領域又有新進展了!根據青島西海岸新區國際招商消息顯示,鴻海轉投資的新核芯高階半導體封測廠已進入裝機階段,目前搬入機台設備46台,包含中國製的28nm光刻機,預計10月試產、年底量產。

鴻海近期將觸角擴展到諸多領域,除了電動車外,半導體領域的投入更是不在話下,特別是封測端的布局。鴻海總共有兩個封測企業(訊芯、鴻海集團的S事業群),今年6月鴻海透過訊芯購買馬來西亞科技公司 DNeX約5.03%股權,DNeX手中握有大馬晶圓廠SilTerra約6成股權,也意味著間接投資大馬8吋晶圓廠。整體來看,鴻海集團透過直接和間接方式,共營運2座8吋晶圓廠及2座封裝測試廠。

此次青島高階封測設備的投入,更是強化鴻海封測端的能力。從數據資料顯示,青島新核芯科技資本額約人民幣5.08億元,主要股東為青島融資科技服務公司,持股比例約48.85%;鴻海旗下富泰華工業持股比例約11.81%、相關企業虹晶科技持股比例約15.75%。

新核芯高階半導體封測廠的進場青島西海岸新區,對中國半導體產業又意味著甚麼呢?此次新核芯高階半導體封測廠所採用的光刻機設備,是採用上中國光刻機龍頭海微電子(SMEE)28奈米光刻機,從中國的角度來看,被視為降低國外市場依賴的重要里程碑。

SMEE在中國深耕20餘年,旗下光刻機主要應用於先進封裝領域,包括覆晶(Flip Chip)、扇入型晶圓級封裝(Fan-In WLP)、扇出型晶圓級封裝(Fan Out WLP)和2.5D/3D等先進封裝形式,可滿足凸塊製程(Bumping)、線路重布製程(RDL)和矽穿孔(TSV)等製程的晶圓級光刻工藝需求。

降低對國外市場依賴,中國首台封裝光刻機入駐青島

光刻機設備有將近九成以上掌握在三家大廠手中,其中艾司摩爾(ASML)占比最大,而日本的Canon和 Nikon被視為最有機會反超ASML的廠商。

隨著晶片製程不斷演進,設計挑戰也與日倍增,想當然爾,幫助讓晶片製造可以順利成形的光刻機設備製造,難度自然不在話下,特別是EUV光刻機,售價以億起跳且年生產量個位數起跳。

以此為前提,各大廠商取得光刻機挑戰本身就大,後續又加上在中美貿易科技戰、疫情與半導體在地化種種因素的驅動下,讓原本不易取得先進製程設備的中國,想要獲取光刻機更是難上加難。

綜合上述因素,促使中國積極耕耘投入光刻機技術。根據中國媒體報導,此次富士康購入的28奈米光刻機設備來自於SMEE,雖然製程較大,但這些晶片用在家電上還是沒問題,這無疑是件好事,而此事件也可看做中國跨出對國外設備依賴的一大步。

責任編輯:錢玉紘

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