訂閱電子報∣ 友善列印字體大小 文章分享-Facebook 文章分享-Plurk 文章分享-Twitter
台積電宣佈增強版7nm/5nm:性提升7%
獲取產業訊息零時差!立即訂閱電電公會電子報。

在日本的2019 VLSI Symposium超大型積體電路研討會上,台積電宣佈了兩種新工藝,分別是7nm、5nm的增強版,但都比較低調,沒有過多宣傳。

7nm工藝的增強版代號為“N7P”(P即代表性能Performance),在原有第一代N7 7nm工藝的基礎上,繼續使用DUV深紫外光刻技術而沒有7nm+上的EUV極紫外光刻,設計規則不變,電晶體密度也不變,只是優化了前線(FEOL)、後線(BEOL),能在同等功耗下帶來7%的性能提升,或者在同等性能下降功耗降低10%。

5nm工藝的增強版代號為“N5P”,也是優化前線和後線,可在同等功耗下帶來7%的性能提升,或者在同等性能下降功耗降低15%。

台積電N7P工藝已經可用,但尚未宣佈任何具體客戶。

台積電此前曾表示,7nm、6nm都是長期工藝節點,會使用多年,5nm則相當於一個升級過渡版本。

再往後,台積電的下一個重大工藝節點3nm也已經取得重大進展,技術研發非常順利,已經有早期客戶參與進來,與台積電一起進行技術定義,預計2022年初步量產。

訂閱電子報 友善列印 字體大小:
獲取產業訊息零時差!立即訂閱電電公會電子報。