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先進製程推動材料需求 英特格斥1.8億升級台灣技術研發中心
新電子侯冠州
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先進製程對特用化學及先進材料需求大增,為滿足其在產量、可靠度及性能方面的需求,英特格(Entegris)宣布投資約600萬美元(約新台幣1.8億元),擴大台灣技術研發中心之功能,例如導入高靈敏度KLA SP3晶圓檢測系統及相關設施(包含Class 10無塵室及ACT12塗布機);此外,還進一步擴建其新竹廠房,以增進用於化學機械研磨(CMP)過濾器的奈米熔噴(Nano Melt Blown)濾芯之產能。

英特格台灣總經理謝俊安表示,現今整個社會進入了工業4.0與數位化的時代,像是人工智慧(AI)、自動駕駛、區塊鏈、5G,以及物聯網(IoT)等創新應用皆驅使半導體產業持續成長。也因此,半導體製造商積極朝向先進製程發展,例如目前的7奈米,甚至未來的5奈米、3奈米等,而特用化學及先進材料的需求也因此大增,半導體商須運用新材料來實現先進製程發展及提升可靠度。

謝俊安舉例,以熱門的3D NAND Flash來說,隨著製程技術的改變,其每片晶圓都預期會再增加至少兩倍的特用化學材料;又或是從28奈米走到7奈米,產品的金屬雜質要求須下降100倍,不純物的體積也要縮小4倍,在在說明更純、更新的材料對於先進製程技術是日趨重要。

也因此,英特格持續不斷投資並擴大在台灣的業務,像是引進KLA SP3晶圓檢測系統,讓該公司在台灣的晶圓檢測能力擴展至19奈米,得以自行產出晶圓缺陷的數據,以引導新產品開發及改善產品性能;又或是關鍵半導體製程對於CMP過濾的需求也日益增加,有鑑於此,該公司也擴大了新竹廠的NMB濾芯產品產線,並透過與台灣工程團隊及在地客戶的合作,開發及提供更多NMB產品,以協助客戶精進其製程,縮短上市時間。

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