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EUV將成主流,哪些公司將受傷?
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據相關機構統計,整個2016年,ASML銷售了139台光刻機。在半導體設備行業的市場份額在58%左右,其他的對手包括尼康,佳能等。
 
當然了,半導體設備行業最大的故事是下一代光刻機——EUV,ASML在這方面是毫無疑問的霸主,其極紫外光刻機去年銷售了四台,單台的平均售價達1.1億美元,最新EUV有望在未來幾年成為主流。

隨著半導體制程工藝演變,工藝推進的成本也越來越高,如今能負擔起最新制程研發的基本只剩四家:GlobalFoundries,Intel,三星和台積電。這幾家公司採購新一代光刻機的計畫對整個行業的推動都極為重要,接下來幾代制程工藝極紫外光刻機是核心,Intel,三星,台積電都曾對ASML投資以支援其產品研發。

三星計畫在2018年利用EUV實現7nm工藝;台積電今年已經加快了7nm步伐,將在今年二季度測試EUV,計畫2019年進入5nm制程;Intel將在2020年進入7nm;GlobalFoundries將在2018年生產7nm晶片,2020年用到EUV。ASML曾在1月表示公司2018年的首批訂單已經到手,可見需求量之巨大。

誰會受傷?
由於成本技術原因,ASML的對手尼康,佳能在高端光刻機上競爭力明顯不足,但在中端產品市場仍有一定份額。置購成本(Cost of Ownership)是衡量購買哪個系統的一個關鍵指標,從尼康和佳能的CoO資料可以看出,影響置購成本的因素有很多,不僅包括設備,還包括材料等等。
 
EUV的大獲成功對尼康和佳能肯定都不是一件好事。更重要的是,對整個半導體行業的供應也會有巨大影響,包括其他設備,材料等方面,最容易受影響的可能就是AMAT,LRCX和PLAB這些上一代光刻設備生產廠家。
 
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