2010.01.20 第 106 期
| 日立高科技（hitachi-hitec）公司與日立國際電氣公司共同研發之半導體製造用Plasma Ashing裝置
電電公會東京辦事處 |
| 日立高科技（hitachi-hitec）公司與日立國際電氣公司共同研發之半導體製造用Plasma Ashing裝置，預定於2010年10－12月期上市。該公司擬與最暢銷之Plasma etching裝置配合銷售。該兩家公司雖均為日立製作所之子公司，但合作研發之關係薄弱。當半導體廠商之優勝劣敗逐漸明顯之際，裝置（機器）廠商亦將採合作、盼能提高投資意願，擴大銷售及世界之佔有率。 |
資料來源：日經產經新聞 |
